本站音讯，把柄企查查数据显露京东方Ａ（000725）新获取一项发明专利授权，专利名为“显露基板、制备措施和显露安装”，专利央求号为CN202110691615.3，授权日为2024年4月23日。

专利摘要：本央求公开了一种显露基板、制备措施和显露安装，显露基板包括：衬底，衬底具有显露区域和非显露区域；阳极层设在衬底上，阳极层包括诞生在显露区域的第一阳极层和诞生在非显露区域的第二阳极层；发光层设在第一阳极层的隔离衬底的一侧，第二阳极层上设有违背台，违背台卓著于第二阳极层的隔离衬底的一侧名义，违背台围绕第一阳极层的外周延长；封装层障翳发光层与阳极层以及违背台。在显露基板中，通过违背台不错违背水汽进入显露区域，即使封装层出现裂纹，通过违背台也不错违背水汽向显露区域侵入，辞谢水汽斗争发光层，幸免水汽对发光层的损坏腐蚀，幸免产生进行性雀斑，保证显露成果。

本年以来京东方Ａ新获取专利授权1324个，较旧年同时加多了59.52%。集合公司2023年年报财务数据，2023年公司在研发方面插足了113.2亿元，同比增1.97%。

数据开首：企查查

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